| 2001. 09 |
회사 설립 |
| 2001. 10 |
Vacuum Gate Valve 개발
(삼성전자 & 하이닉스반도체 FAB 설치) |
| 2002. 08 |
리모트 플라즈마 Etching/Ashing 방법 개발 (특허등록) |
| 2003. 03 |
진공배관 세정 장치 개발 (특허등록) |
| 2003. 08 |
벤처기업 확인 (신기술기업) |
| 2003. 10 |
리모트 플라즈마 애싱장치 개발 (특허등록) |
| 2003 .11 |
Soft Start Auto Gate Valve 개발 (특허등록)
(삼성전자 & 하이닉스 반도체 300mm FAB 설치) |
| 2003. 12 |
- 우수벤처기업인상 수상 (중소기업청)
- 중소기업기술혁신개발사업 수행/성공 |
| 2004. 07 |
본사 및 공장 신사옥 준공 이전 |
| 2005. 03 |
ISO 9001:2000 / KS A 9001:2001 인증 |
| 2005. 04 |
2005 중소기업기술혁신개발사업(전략과제) 협약 체결 |
| 2005. 08 |
Powder & Particle Free Type Gate Valve 개발 (특허등록) |
| 2006. |
Gas Purification System (Gas Purifier, PSA, Dryer)
Gas Supply System (Gas Cabinet, Valve Manifold Box)
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| 2007. |
06月 UMC12A Modify건 수주
08月 대만 NEXPOWER 수주 GC. VMB/VMP FDB
10月 미국 SAS 수주 FRG
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