| |
|
| |
본 제품은 반도체 & FPD 제조공정중 발생하는 공정부산물(powders)을 화학반응에
의해 식각제거하는 장치로서, 공정부산물이 축적되는 모든 진공배관, 부대장치 및 진공펌프를 효과적으로 cleaning 할 수 있음
(특허등록) |
| |
-
Chamber 배기관 및 부대장치의 청결함을 유지하므로서 Particle 발생 감소에 따른 생산성
향상 및 비용절감 효과
-
진공펌프 및 부대장치의 Fail 발생 감소에 따른 생산성 향상 및 보수유지비용 절감
효과
-
기존시스템에 최소한의 장치를 추가하는 방식
-
Process에 영향을 주지 않는 안전한 System
|
| |
Model |
TFG600A-2A |
TFG600A-1A |
| |
2-channel |
1-channel |
| 시스템구성 |
Plasma Reactor - 2 unit
RF-Generator - 1 unit
Controller - 1 unit
AGV40 -2 EA |
Plasma Reactor - 1 unit
RF-Generator - 1 unit
Controller - 1 unit
AGV40 - 1 EA |
| Accessories (Option) |
| 품 명 |
V.M.P (Valve Manifold Panel)
Foreline adapter
Gas test kit
Gas inlet tube (1/4” flexible) |
|
| |
 Plasma
Reactor Unit
- Cleaning 하고자 하는 장치의 상부 Foreline에 설치되고, Plasma가 형성되는 장치이며, 출구측에 Auto Gate
Valve(NW40)가 설치됨
|
| |
 RF Generator
Unit
- Plasma 발생에 필요한 RF power를 생성하여 Plasma Reactor로 공급하는 장치
|
| |
 Controller
Unit
- 시스템 Running 및 Monitoring & Display 장치이며, Local 측에 설치되는 Main controller와
원격(설비측)에서 작동 가능한 Remote controller로 구성됨
|
| |
| Applications : Diffusion / CVD / Metal / Etch |
| |
 Catalog & Presentation |
| ※ 카달로그 및 제품을 클릭하시면 설명을 볼 수 있습니다. |
