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본 제품은 반도체 & FPD 제조공정중 발생하는 공정부산물(powders)을 화학반응에
의해 식각제거하는 장치로서,공정부산물이 축적되는 모든 진공배관, 부대장치 및 진공펌프를 효과적으로 cleaning 할 수 있음
(특허등록) |
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Chamber 배기관 및 부대장치의 청결함을 유지하므로서 Particle 발생 감소에 따른 생산성
향상 및 비용절감 효과
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진공펌프 및 부대장치의 Fail 발생 감소에 따른 생산성 향상 및 보수유지비용 절감
효과
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기존시스템에 최소한의 장치를 추가하는 방식
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Process에 영향을 주지 않는 안전한 System
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Model |
TFG600A-2A |
TFG600A-1A |
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2-channel |
1-channel |
시스템구성 |
Plasma Reactor - 2 unit
RF-Generator - 1 unit
Controller - 1 unit
AGV40 -2 EA |
Plasma Reactor - 1 unit
RF-Generator - 1 unit
Controller - 1 unit
AGV40 - 1 EA |
Accessories (Option) |
품 명 |
V.M.P (Valve Manifold Panel)
Foreline adapter
Gas test kit
Gas inlet tube (1/4” flexible) |
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Plasma
Reactor Unit
- Cleaning 하고자 하는 장치의 상부 Foreline에 설치되고, Plasma가 형성되는 장치이며, 출구측에 Auto Gate
Valve(NW40)가 설치됨
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RF Generator
Unit
- Plasma 발생에 필요한 RF power를 생성하여 Plasma Reactor로 공급하는 장치
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Controller
Unit
- 시스템 Running 및 Monitoring & Display 장치이며, Local 측에 설치되는 Main controller와
원격(설비측)에서 작동 가능한 Remote controller로 구성됨
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Applications : Diffusion / CVD / Metal / Etch |
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Catalog & Presentation |
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